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URN: urn:nbn:de:swb:90-42603

How C&CM can help the designer to find the right principles

Albers, A.; Burkardt, N.; Ohmer, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Produktentwicklung (IPEK)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Jahr 2005
Sprache Englisch
Identifikator URN: urn:nbn:de:swb:90-42603
KITopen ID: 1000004260
Erschienen in Proceedings of CIRP Design Seminar 2005. New trends in engineering design
Seiten 232-241
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