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Growth of graphene layers on HOPG via exposure to methyl radicals

Wellmann, Ralf; Böttcher, Artur; Kappes, Manfred



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/S0039-6028(03)00928-2
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Zitationen: 29
Dimensions
Zitationen: 28
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Physikalische Chemie (IPC)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2003
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0039-6028
KITopen-ID: 1000004493
Erschienen in Surface Science
Verlag Elsevier
Band 542
Heft 1-2
Seiten 81-93
Nachgewiesen in Dimensions
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