KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz

Integriertes Verfahren zur Funktionalisierung der Oberfläche von gasgetragenen Partikeln durch MOCVS/MOCVD und dessen Anwendung auf die Herstellung von Pd/SiO2-Katalysatoren

Heel, Andre

Abstract:

Das Ziel dieser Arbeit war die Entwicklung eines kontinuierlichen MOCVS/MOCVD-Verfahrens zur Generierung und Funktionalisierung von gasgetragenen, nanoskaligen Partikeln bei atmosphärischen Bedingungen und dessen Anwendung auf die Herstellung von Siliziumdioxid geträgerten Palladiumkatalysatoren (Pd/SiO2).


Volltext §
DOI: 10.5445/KSP/1000005523
Die gedruckte Version dieser Publikation können Sie hier kaufen.
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mechanische Verfahrenstechnik und Mechanik (MVM)
Publikationstyp Hochschulschrift
Publikationsjahr 2006
Sprache Deutsch
Identifikator ISBN: 978-3-86644-075-3
urn:nbn:de:0072-55238
KITopen-ID: 1000005523
Verlag Universitätsverlag Karlsruhe
Umfang III, 128 S.
Art der Arbeit Dissertation
Fakultät Fakultät für Chemieingenieurwesen und Verfahrenstechnik (CIW)
Institut Institut für Mechanische Verfahrenstechnik und Mechanik (MVM)
Prüfungsdaten 27.03.2006
Schlagwörter MOCVD-Verfahren , Funktionalisierung , Nanopartikel , Nanostrukturiertes Material , Palladium , Siliziumdioxid , Katalyse
Referent/Betreuer Kasper, G.
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
KITopen Landing Page