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Large-area magnetic metamaterials via compact interference lithography

Feth, N.; Enkrich, C.; Wegener, M.; Linden, S.

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Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2007
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1094-4087
KITopen-ID: 1000010993
HGF-Programm 43.04.02 (POF I, LK 01) Metamaterialien u. Photonische Kristalle
Erschienen in Optics Express
Verlag Optical Society of America (OSA)
Band 15
Heft 2
Seiten 501-507
Externe Relationen Abstract/Volltext
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