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Large-area magnetic metamaterials via compact interference lithography

Feth, N.; Enkrich, C.; Wegener, M.; Linden, S.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2007
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1094-4087
KITopen-ID: 1000010993
HGF-Programm 43.04.02 (POF I, LK 01)
Erschienen in Optics Express
Band 15
Heft 2
Seiten 501-507
Externe Relationen Volltext/Abstract
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