Large-area magnetic metamaterials via compact interference lithography

Feth, N.; Enkrich, C.; Wegener, M.; Linden, S.

Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Angewandte Physik (APH) Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Jahr	2007
Sprache	Englisch
Identifikator	ISSN: 1094-4087 KITopen-ID: 1000010993
HGF-Programm	43.04.02 (POF I, LK 01)
Erschienen in	Optics Express
Band	15
Heft	2
Seiten	501-507
Externe Relationen	Volltext/Abstract