Highly Selective Wet Etch for High-Resolution Three-Dimensional Nanostructures in Arsenic Sulfide All-Inorganic Photoresist
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Physik (APH) Institut für Nanotechnologie (INT) Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen) Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2007 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0897-4756, 1520-5002 KITopen-ID: 1000010998 |
| HGF-Programm | 43.04.02 (POF I, LK 01) Metamaterialien u. Photonische Kristalle |
| Erschienen in | Chemistry of materials |
| Verlag | American Chemical Society (ACS) |
| Band | 19 |
| Heft | 17 |
| Seiten | 4213-4221 |
| Nachgewiesen in | Web of Science Dimensions Scopus |