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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/cm070756y
Scopus
Zitationen: 19
Web of Science
Zitationen: 20

Highly Selective Wet Etch for High-Resolution Three-Dimensional Nanostructures in Arsenic Sulfide All-Inorganic Photoresist

Wong, Sean H.; Thiel, Michael; Brodersen, Peter; Fenske, Dieter; Ozin, Geoffrey A.; Wegener, Martin; Freymann, Georg von



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2007
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0897-4756, 1520-5002
KITopen-ID: 1000010998
HGF-Programm 43.04.02 (POF I, LK 01)
Erschienen in Chemistry of materials
Band 19
Heft 17
Seiten 4213-4221
Nachgewiesen in Scopus
Web of Science
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