KIT | KIT-Bibliothek | Impressum

Origin of roughening in epitaxial growth of silicon on Si(001) and Ge(001) surfaces

Wulfhekel, W.; Zandvliet, H. J. W.; Zoethout, E.; Poelsema, B.



Zugehörige Institution(en) am KIT Physikalisches Institut (PHI)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2001
Sprache Englisch
Identifikator DOI: 10.1016/S0039-6028(01)00807-X
ISSN: 0039-6028
KITopen ID: 1000013643
Erschienen in Surface Science
Band 482-485
Heft 1
Seiten 391-395
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft KITopen Landing Page