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Origin of roughening in epitaxial growth of silicon on Si(001) and Ge(001) surfaces

Wulfhekel, W.; Zandvliet, H. J. W.; Zoethout, E.; Poelsema, B.


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/S0039-6028(01)00807-X
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Zitationen: 7
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Zitationen: 8
Zugehörige Institution(en) am KIT Physikalisches Institut (PHI)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2001
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0039-6028
KITopen-ID: 1000013643
Erschienen in Surface Science
Verlag Elsevier
Band 482-485
Heft 1
Seiten 391-395
Nachgewiesen in Web of Science
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