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Suppression of silicide formation in Fe films grown on Si(001)

Wulfhekel, W.; Zavaliche, F.; Xu, H.; Kirschner, J.

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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1063/1.1314311
Scopus
Zitationen: 32
Web of Science
Zitationen: 28
Zugehörige Institution(en) am KIT Physikalisches Institut (PHI)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2000
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0021-8979
KITopen-ID: 1000013644
Erschienen in Journal of Applied Physics
Band 88
Heft 9
Seiten 5289 - 5292
Nachgewiesen in Scopus
Web of Science
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