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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1088/0957-4484/17/23/029
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Zitationen: 12

Nanostructuring the graphite basal plane by focused-ion-beam patterning and oxygen etching

Böttcher, Artur; Heil, Moritz; Stürzl, Ninette; Jester, Stefan S.; Malik, Sharali; Pérez-Willard, Fabián; Brenner, Patrice; Gerthsen, Dagmar; Kappes, Manfred M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Laboratorium für Elektronenmikroskopie (LEM)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2006
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0957-4484, 1361-6528
KITopen ID: 1000015289
HGF-Programm 43.03.03; LK 01
Erschienen in Nanotechnology
Band 17
Heft 23
Seiten 5889-5894
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