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Nanostructuring the graphite basal plane by focused-ion-beam patterning and oxygen etching

Böttcher, Artur 1; Heil, Moritz 1; Stürzl, Ninette 1; Jester, Stefan S. 1; Malik, Sharali 2; Pérez-Willard, Fabián 3; Brenner, Patrice 3; Gerthsen, Dagmar 3; Kappes, Manfred M. 1
1 Institut für Physikalische Chemie (IPC), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Forschungszentrum Karlsruhe (FZKA)
3 Laboratorium für Elektronenmikroskopie (LEM), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1088/0957-4484/17/23/029
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Zitationen: 23
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Zitationen: 20
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Laboratorium für Elektronenmikroskopie (LEM)
Universität Karlsruhe (TH) – Zentrale Einrichtungen (Zentrale Einrichtungen)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2006
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0957-4484, 1361-6528
KITopen-ID: 1000015289
HGF-Programm 43.03.03 (POF I, LK 01) Grenzflächenabhängige Eigenschaften
Erschienen in Nanotechnology
Verlag Institute of Physics Publishing Ltd (IOP Publishing Ltd)
Band 17
Heft 23
Seiten 5889-5894
Nachgewiesen in Web of Science
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