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Metamorphic HEMT Technology for Low-noise Applications

Leuther, A.; Tessmann, A.; Kallfass, I.; Lösch, R.; Seelmann-Eggebert, M.; Wadefalk, N.; Schäfer, F.; Gallego Puyol, J. D.; Schlechtweg, M.; Mikulla, M.; Ambacher, O.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Hochfrequenztechnik und Elektronik (IHE)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Publikationsjahr 2009
Sprache Englisch
Identifikator ISBN: 978-1-424-43432-9
KITopen-ID: 1000016404
Erschienen in Proceedings on 20th International Conference on Indium Phosphide and Related Materials (IPRM), Newport Beach, CA, USA, 10 - 14 May 2009
Verlag IEEE, Piscataway (NJ)
Seiten 188 - 191
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