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A synchrotron tensile test setup for nanocrystalline thin films

Ulyanenkova, T. 1; Baumbusch, R. 1; Filatova, T. 1; Doyle, S. 1; Castrup, A. 2; Gruber, P. A. 1; Markmann, J.; Weissmüller, J. 2; Baumbach, Tilo 1; Hahn, H. 2; Kraft, O. 1
1 Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1002/pssa.200881599
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Zitationen: 4
Web of Science
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Zitationen: 4
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Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Werkstoff- und Biomechanik (IMF2) (IMF2)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Synchrotronstrahlung (ISS)
Laboratorium für Applikationen der Synchrotronstrahlung (LAS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2009
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0031-8965, 1521-396X, 1862-6300, 1862-6319
KITopen-ID: 1000017065
HGF-Programm 43.01.05 (POF II, LK 01) Charakterisierung u.Zuverlässigkeit
Erschienen in Physica status solidi / A
Verlag John Wiley and Sons
Band 206
Heft 8
Seiten 1795-1798
Externe Relationen Abstract/Volltext
Nachgewiesen in Web of Science
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