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Investigation of siloxane film formation on functionalized germanium crystals by atomic force microscopy and FTIR - ATR spectroscopy

Glowacky, J.; Heißler, S.; Boese, M.; Leiste, H.; Koker, T.; Faubel, W.; Gerdes, A.; Müller, H. S.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Technische Chemie - Bereich Wasser- und Geotechnologie (ITC-WGT) (ITC-WGT)
Institut für Materialforschung - Angewandte Werkstoffphysik (IMF1) (IMF1)
Institut für Massivbau und Baustofftechnologie (IMB)
Institut für Angewandte Informatik (IAI)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2008
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1864 - 7251
KITopen ID: 1000018249
HGF-Programm 11.14.01; LK 01
Erschienen in Restoration of Buildings and Monuments = Bauinstandsetzen und Baudenkmalpflege
Band 14
Heft 6
Seiten 413 - 424
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