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Investigation of siloxane film formation on functionalized germanium crystals by atomic force microscopy and FTIR-ATR spectroscopy

Glowacky, J.; Heißler, S.; Boese, M.; Leiste, H.; Koker, T.; Faubel, W.; Gerdes, A.; Müller, H. S.


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1515/rbm-2008-6251
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Informatik (IAI)
Institut für Massivbau und Baustofftechnik (IMB)
Institut für Materialforschung - Angewandte Werkstoffphysik (IMF1) (IMF1)
Institut für Technische Chemie - Bereich Wasser- und Geotechnologie (ITC-WGT) (ITC-WGT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2008
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1864-7022, 1864-7251
KITopen-ID: 1000018249
HGF-Programm 11.14.01 (POF I, LK 01) Technologie von Baustoffen
Erschienen in Restoration of buildings and monuments
Verlag De Gruyter
Band 14
Heft 6
Seiten 413-424
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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