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Large-area sub-micron gap interdigitated THz emitters fabricated by interference lithography and angle evaporation

Lemmer, U.; Huska, K.; Klatt, G.; Hetterich, J.; Geyer, U.; Dekorsy, T.; Bastian, G.



Zugehörige Institution(en) am KIT Lichttechnisches Institut (LTI)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2009
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0013-5194
KITopen-ID: 1000021327
Erschienen in Electronics Letters
Band 45
Heft 16
Seiten 851 - 853
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