Large-area sub-micron gap interdigitated THz emitters fabricated by interference lithography and angle evaporation
Lemmer, U.
; Huska, K.; Klatt, G.; Hetterich, J.; Geyer, U.; Dekorsy, T.; Bastian, G.
; Huska, K.; Klatt, G.; Hetterich, J.; Geyer, U.; Dekorsy, T.; Bastian, G.| Zugehörige Institution(en) am KIT | Lichttechnisches Institut (LTI) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2009 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0013-5194 KITopen-ID: 1000021327 |
| Erschienen in | Electronics Letters |
| Verlag | Institution of Engineering and Technology (IET) |
| Band | 45 |
| Heft | 16 |
| Seiten | 851 - 853 |