KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz

Cu grain growth in damascene narrow trenches

Maitrejean, S.; Carreau, V.; Thomas, O.; Labat, S.; Kaouache, B.; Verdier, M.; Lepinoux, J.; Brechet, Y.; Legros, M.; Douin, J.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Zuverlässigkeit von Bauteilen und Systemen (IAM-ZBS)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Publikationsjahr 2009
Sprache Englisch
Identifikator ISBN: 978-0-7354-0680-3
ISSN: 0094-243X
KITopen-ID: 1000024425
Erschienen in Stress-induced phenomena in metallization: Tenth International Workshop on Stress-Induced Phenomena in Metallization, Austin, Texas, 5 - 7 November 2008. Ed.: P. S. Ho
Verlag American Institute of Physics (AIP)
Seiten 135-150
Serie AIP conference proceedings ; 1143
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
KITopen Landing Page