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SU-8: A photoresist for high-aspect-ratio and 3D submicron lithography

del Campo, A.; Greiner, C.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Zuverlässigkeit von Bauteilen und Systemen (IAM-ZBS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2007
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0960-1317
KITopen ID: 1000024469
Erschienen in Journal of Micromechanics and Microengineering
Band 17
Heft 6
Seiten R81-R95
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