SU-8: A photoresist for high-aspect-ratio and 3D submicron lithography
Campo, A. del; Greiner, C.
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Materialien - Zuverlässigkeit von Bauteilen und Systemen (IAM-ZBS) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2007 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0960-1317 KITopen-ID: 1000024469 |
| Erschienen in | Journal of Micromechanics and Microengineering |
| Verlag | Institute of Physics Publishing Ltd (IOP Publishing Ltd) |
| Band | 17 |
| Heft | 6 |
| Seiten | R81-R95 |