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Channel cracking of β-NiAl thin films on Si substrates

Wellner, P.; Kraft, O.; Dehm, G.; Andersons, J.; Arzt, E.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Zuverlässigkeit von Bauteilen und Systemen (IAM-ZBS)
Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2004
Sprache Englisch
Identifikator DOI: 10.1016/j.actamat.2004.01.023
ISSN: 1359-6454
KITopen ID: 1000024567
HGF-Programm 41.03.02; LK 01
Erschienen in Acta Materialia
Band 52
Heft 8
Seiten 2325-2336
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