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Channel cracking of β-NiAl thin films on Si substrates

Wellner, P.; Kraft, O. 1; Dehm, G.; Andersons, J.; Arzt, E.
1 Forschungszentrum Karlsruhe (FZKA)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.actamat.2004.01.023
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Zitationen: 35
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Zitationen: 34
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Zuverlässigkeit von Bauteilen und Systemen (IAM-ZBS)
Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsdatum 03.05.2004
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1359-6454, 1873-2453
KITopen-ID: 1000024567
HGF-Programm 41.03.02 (POF I, LK 01) Mikrostrukturapparate
Erschienen in Acta materialia
Verlag Elsevier
Band 52
Heft 8
Seiten 2325-2336
Vorab online veröffentlicht am 26.02.2004
Nachgewiesen in Web of Science
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