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URN: urn:nbn:de:swb:90-258495

Nanokontaktlithographie auf Basis templatinduzierter Selbstorganisation amphiphiler Blockcopolymere

Heiler, Tobias Jörg

Abstract:
In dieser Arbeit wurden die einzelnen Prozessschritte eines neuartigen Softlithographieverfahrens untersucht und weiterentwickelt. Dieses basiert auf der Übertragung eines auf einem chemisch heterogenen Substrat vorgegebenen Musters in die Morphologie eines Blockcopolymerfilms. Der Film bildet die Unterseite eines elastischen Stempels, mit dem topographische Nanostrukturen mit Strukturgrößen von 15 nm erzeugt
werden konnten.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Publikationstyp Hochschulschrift
Jahr 2012
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen ID: 1000025849
Verlag Karlsruhe
Abschlussart Dissertation
Fakultät Fakultät für Physik (PHYSIK)
Institut Institut für Angewandte Physik (APH)
Prüfungsdaten 09.12.2011
Referent/Betreuer Prof. T. Schimmel
Schlagworte Blockcopolymer, Rasterkraftmikroskopie, Selbstorganisation
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