Nanokontaktlithographie auf Basis templatinduzierter Selbstorganisation amphiphiler Blockcopolymere

In dieser Arbeit wurden die einzelnen Prozessschritte eines neuartigen Softlithographieverfahrens untersucht und weiterentwickelt. Dieses basiert auf der Übertragung eines auf einem chemisch heterogenen Substrat vorgegebenen Musters in die Morphologie eines Blockcopolymerfilms. Der Film bildet die Unterseite eines elastischen Stempels, mit dem topographische Nanostrukturen mit Strukturgrößen von 15 nm erzeugt
werden konnten.