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An investigation of the process stability of RF SiPmade of DuPont 943 and 9K7

Bartnitzek, T.; Purtova, T.; Rusch, C.; Kaminski, S.; Feger, T.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.4071/imaps.287
Scopus
Zitationen: 2
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Hochfrequenztechnik und Elektronik (IHE)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2011
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1551-4897
KITopen-ID: 1000026252
Erschienen in Journal of Microelectronics and Electronic Packaging
Band 8
Heft 1
Seiten 34-41
Nachgewiesen in Scopus
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