Investigation of the radiation-induced thermal flexure of an x-ray lithography mask during a tilted exposure
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) Institut für Organische Chemie (IOC) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2011 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 1071-1023 KITopen-ID: 1000027315 |
| HGF-Programm | 43.04.03 (POF II, LK 01) Röntgenoptik |
| Erschienen in | Journal of Vacuum Science and Technology B |
| Verlag | American Vacuum Society |
| Band | 29 |
| Seiten | 011007/1-7 |
| Nachgewiesen in | Dimensions Web of Science Scopus |
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seit 22.05.2018
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