KIT | KIT-Bibliothek | Impressum

Investigation of the radiation-induced thermal flexure of an x-ray lithography mask during a tilted exposure

Nazmov, V.; Reznikova, E.; Mohr, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Institut für Organische Chemie (IOC)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2011
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1071-1023
KITopen ID: 1000027315
HGF-Programm 43.04.03; LK 01
Erschienen in Journal of Vacuum Science and Technology B
Band 29
Seiten 011007/1-7
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft KITopen Landing Page