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Reduced propagation loss in silicon strip and slot waveguides coated by atomic layer deposition

Alasaarela, T.; Korn, D. 1,2; Alloatti, L. 1,2; Säynätjoki, A.; Tervonen, A.; Palmer, R. 1,2; Leuthold, J. 1,2; Freude, W. 1,2; Honkanen, S.
1 Institut für Photonik und Quantenelektronik (IPQ), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)

Abstract:

When silicon strip and slot waveguides are coated with a 50nm amorphous titanium dioxide (TiO2) film, measured losses at a wavelength of 1.55μm can be as low as (2±1)dB/cm and (7±2)dB/cm, respectively. We use atomic layer deposition (ALD), estimate the effect of ALD growth on the surface roughness, and discuss the effect on the scattering losses. Because the gap between the rails of a slot waveguide narrows by the TiO2 deposition, the effective slot width can be back-end controlled. This is useful for precise adjustment if the slot is to be filled with, e. g., a nonlinear organic material or with a sensitizer for sensors applications.


Verlagsausgabe §
DOI: 10.5445/IR/1000027331
Veröffentlicht am 08.03.2018
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1364/OE.19.011529
Scopus
Zitationen: 107
Web of Science
Zitationen: 93
Dimensions
Zitationen: 98
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Institut für Organische Chemie (IOC)
Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2011
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1094-4087
urn:nbn:de:swb:90-273319
KITopen-ID: 1000027331
HGF-Programm 43.14.03 (POF II, LK 01) System integration
Erschienen in Optics express
Verlag Optica Publishing Group (OSA)
Band 19
Heft 12
Seiten 11529-11538
Nachgewiesen in Dimensions
Web of Science
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