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Accurate coupled-cluster calculations of the reaction barrier heights of two CH3 + CH4 reactions

Klopper, W.; Bachorz, R. A.; Tew, D. P.; Aguilera-Iparraguirre, J.; Carissan, Y.; Hättig, C.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/jp902753s
Scopus
Zitationen: 9
Web of Science
Zitationen: 8
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Physikalische Chemie (IPC)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2010
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1089-5639
KITopen-ID: 1000027395
Erschienen in Journal of Physical Chemistry A
Band 113
Heft 43
Seiten 11679-11684
Nachgewiesen in Web of Science
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