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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1166/jnn.2010.2565
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Zitationen: 3
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Zitationen: 3

Periodical Nanostructured Multiline Copper Films Self-Organized by Electrodeposition: Structure and Properties

Zhong, S.; Dupeyrat, P.; Groeger, R.; Wang, M.; Koch, Th.; Schimmel, Th.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2010
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1533-4880
KITopen-ID: 1000028372
HGF-Programm 43.11.02 (POF II, LK 01)
Erschienen in Journal of Nanoscience and Nanotechnology
Band 10
Heft 9
Seiten 6144-6149
Nachgewiesen in Web of Science
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