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Direct laser writing of three-dimensional submicron structures using a continuous-wave laser at 532 nm

Thiel, M. 1,2; Fischer, J. 1,2; Freymann, G. von 1,2,3; Wegener, M. 1,2,3
1 DFG Forschungszentrum für funktionelle Nanostrukturen der Universität Karlsruhe (TH) (ZFN), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Center for Functional Nanostructures (CFN), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1063/1.3521464
Scopus
Zitationen: 145
Web of Science
Dimensions
Zitationen: 142
BibTeX (UTF-8) BibTeX (ASCII) EndNote/Refer (.enw) RIS CSL-JSON ISI
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2010
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0003-6951, 1077-3118
KITopen-ID: 1000028385
HGF-Programm 43.14.01 (POF II, LK 01) Photonics crystals and metamaterials
Erschienen in Applied physics letters
Verlag American Institute of Physics (AIP)
Band 97
Heft 22
Seiten Art.Nr. 221102
Nachgewiesen in Dimensions
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