Three-dimensional optical lithography beyond the diffraction limit
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Physik (APH) Institut für Nanotechnologie (INT) |
| Publikationstyp | Hochschulschrift |
| Publikationsjahr | 2012 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | urn:nbn:de:swb:90-287048 KITopen-ID: 1000028704 |
| HGF-Programm | 43.14.01 (POF II, LK 01) Photonics crystals and metamaterials |
| Verlag | Karlsruher Institut für Technologie (KIT) |
| Art der Arbeit | Dissertation |
| Fakultät | Fakultät für Physik (PHYSIK) |
| Institut | Institut für Angewandte Physik (APH) |
| Prüfungsdaten | 27.04.2012 |
| Schlagwörter | three-dimensional, lithography, diffraction limit, superresolution, two-photon-absorption, direct laser writing |
| Referent/Betreuer | Wegener, M. |