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Three-dimensional optical lithography beyond the diffraction limit

Fischer, Joachim

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Volltext §
DOI: 10.5445/IR/1000028704
Coverbild
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Hochschulschrift
Jahr 2012
Sprache Englisch
Identifikator urn:nbn:de:swb:90-287048
KITopen-ID: 1000028704
HGF-Programm 43.14.01 (POF II, LK 01)
Verlag KIT, Karlsruhe
Abschlussart Dissertation
Fakultät Fakultät für Physik (PHYSIK)
Institut Institut für Angewandte Physik (APH)
Prüfungsdaten 27.04.2012
Referent/Betreuer Prof. M. Wegener
Schlagworte three-dimensional, lithography, diffraction limit, superresolution, two-photon-absorption, direct laser writing
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