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URN: urn:nbn:de:swb:90-287048

Three-dimensional optical lithography beyond the diffraction limit

Fischer, Joachim



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Hochschulschrift
Jahr 2012
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 1000028704
HGF-Programm 43.14.01; LK 01
Verlag Karlsruhe
Abschlussart Dissertation
Fakultät Fakultät für Physik (PHYSIK)
Institut Institut für Angewandte Physik (APH)
Prüfungsdaten 27.04.2012
Referent/Betreuer Prof. M. Wegener
Schlagworte three-dimensional, lithography, diffraction limit, superresolution, two-photon-absorption, direct laser writing
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