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Three-dimensional optical lithography beyond the diffraction limit

Fischer, Joachim

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DOI: 10.5445/IR/1000028704
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Hochschulschrift
Publikationsjahr 2012
Sprache Englisch
Identifikator urn:nbn:de:swb:90-287048
KITopen-ID: 1000028704
HGF-Programm 43.14.01 (POF II, LK 01) Photonics crystals and metamaterials
Verlag Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
Art der Arbeit Dissertation
Fakultät Fakultät für Physik (PHYSIK)
Institut Institut für Angewandte Physik (APH)
Prüfungsdaten 27.04.2012
Referent/Betreuer Prof. M. Wegener
Schlagwörter three-dimensional, lithography, diffraction limit, superresolution, two-photon-absorption, direct laser writing
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