Investigation of dielectric losses in hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) thin films using superconducting microwave resonators

Bruno, A.; Skacel, S. T.; Kaiser, Ch.; Wünsch, S.

; Siegel, M.; Ustinov, A. V.; Lisitskiy, M. P.

Verlagsausgabe

DOI: 10.5445/IR/1000031600

Veröffentlicht am 22.03.2018

Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.phpro.2012.06.154

Scopus
Zitationen: 8

Dimensions
Zitationen: 8

Seitenaufrufe: 274
seit 28.04.2018

Downloads: 383
seit 22.05.2018

Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Mikro- und Nanoelektronische Systeme (IMS)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr	2012
Sprache	Englisch
Identifikator	ISSN: 1875-3884 urn:nbn:de:swb:90-316000 KITopen-ID: 1000031600
Erschienen in	Physics Procedia
Verlag	Elsevier
Band	36
Seiten	245-249
Nachgewiesen in	Dimensions OpenAlex Scopus
Globale Ziele für nachhaltige Entwicklung