Smooth and ultra-precise silicon nanowires fabricated by conventional optical lithography

Alloatti, L.; Korn, D.; Moosmann, M.; Huska, K.; Lemmer, U.; Gerthsen, D.; Schimmel, T.; Freude, W.; Koos, C.; Leuthold, J.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Photonik und Quantenelektronik (IPQ) Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen) Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Publikationstyp	Proceedingsbeitrag
Publikationsjahr	2011
Sprache	Englisch
Identifikator	ISBN: 978-1-4577-1223-4 KITopen-ID: 1000032080
Erschienen in	Conference on Lasers and Electro-Optics (CLEO'11), Baltimore, Maryland, USA, May 01-06, 2011
Verlag	Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE)
Seiten	1-2