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Smooth and ultra-precise silicon nanowires fabricated by conventional optical lithography

Alloatti, L.; Korn, D.; Moosmann, M.; Huska, K.; Lemmer, U.; Gerthsen, D.; Schimmel, T.; Freude, W.; Koos, C.; Leuthold, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Photonik und Quantenelektronik (IPQ)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Jahr 2011
Sprache Englisch
Identifikator ISBN: 978-1-4577-1223-4
KITopen ID: 1000032080
Erschienen in Conference on Lasers and Electro-Optics (CLEO'11), Baltimore, Maryland, USA, May 01-06, 2011
Verlag IEEE, Piscataway (NJ)
Seiten 1-2
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