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Prediction of Thermodynamic and Kinetic Parameters for Interfacial Reactions of the SiO2 System by Quantum Chemistry Methods

Sebbar, N. 1; Rutz, L. 1; Bockhorn, H. 1
1 Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1080/1539445X.2011.599723
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Zitationen: 2
Dimensions
Zitationen: 3
Zugehörige Institution(en) am KIT Engler-Bunte-Institut (EBI)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2012
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1539-445X
KITopen-ID: 1000033855
Erschienen in Soft Materials
Verlag Taylor and Francis
Band 10
Heft 1-3
Seiten 285-312
Nachgewiesen in Dimensions
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