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Prediction of Thermodynamic and Kinetic Parameters for Interfacial Reactions of the SiO2 System by Quantum Chemistry Methods

Sebbar, N.; Rutz, L.; Bockhorn, H.



Zugehörige Institution(en) am KIT Engler-Bunte-Institut (EBI)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2012
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1539-445X
KITopen ID: 1000033855
Erschienen in Soft Materials
Band 10
Heft 1-3
Seiten 285-312
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