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Photorealistic ray tracing of free-space invisibility cloaks made of uniaxial dielectrics

Halimeh, J. C.; Wegener, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2012
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1094-4087
KITopen ID: 1000035154
HGF-Programm 43.14.01; LK 01
Erschienen in Optics Express
Band 20
Heft 27
Seiten 28330-28340
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