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Aluminum hard mask technique for the fabrication of high quality submicron Nb/A-AlOₓ/Nb Josephson junctions

Kaiser, C.; Meckbach, J. M.; Ilin, K. S.; Lisenfeld, J.; Schäfer, R.; Ustinov, A. V.; Siegel, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Festkörperphysik (IFP)
Institut für Mikro- und Nanoelektronische Systeme (IMS)
Physikalisches Institut (PHI)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2011
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0953-2048, 1361-6668
KITopen ID: 1000035866
HGF-Programm 43.11.02; LK 01
Erschienen in Superconductor science and technology
Band 24
Heft 3
Seiten Art.Nr. 035005
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