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Three-dimensional optical laser lithography beyond the diffraction limit

Fischer, Joachim 1,2,3; Wegener, Martin 1,2,3
1 Institut für Angewandte Physik (APH), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Center for Functional Nanostructures (CFN), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1002/lpor.201100046
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Zitationen: 587
Web of Science
Zitationen: 521
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Zitationen: 580
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2013
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1863-8880, 1863-8899
KITopen-ID: 1000038650
HGF-Programm 43.14.01 (POF II, LK 01) Photonics crystals and metamaterials
Erschienen in Laser & photonics reviews
Verlag Wiley-VCH Verlag
Band 7
Heft 1
Seiten 22-44
Nachgewiesen in Web of Science
Dimensions
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