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Hybrid lithography: Combining UV-exposure and two photon direct laser writing

Eschenbaum, Carsten; Großmann, Daniel; Dopf, Katja; Kettlitz, Siegfried; Bocksrocker, Tobias; Valouch, Sebastian; Lemmer, Uli

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Volltext §
DOI: 10.5445/IR/1000038698
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1364/OE.21.029921
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Zitationen: 16
Dimensions
Zitationen: 15
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Lichttechnisches Institut (LTI)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2013
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1094-4087
urn:nbn:de:swb:90-386989
KITopen-ID: 1000038698
HGF-Programm 43.14.03 (POF II, LK 01) System integration
Erschienen in Optics Express
Verlag The Optical Society of America (OSA)
Band 21
Heft 24
Seiten 29921-29926
Bemerkung zur Veröffentlichung Gefördert durch den KIT-Publikationsfonds
Nachgewiesen in Dimensions
Web of Science
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