Hybrid lithography: Combining UV-exposure and two photon direct laser writing
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) Lichttechnisches Institut (LTI) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Jahr | 2013 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 1094-4087 urn:nbn:de:swb:90-386989 KITopen-ID: 1000038698 |
| HGF-Programm | 43.14.03 (POF II, LK 01) |
| Erschienen in | Optics Express |
| Band | 21 |
| Heft | 24 |
| Seiten | 29921-29926 |
| Bemerkung zur Veröffentlichung | Gefördert durch den KIT-Publikationsfonds |
| Nachgewiesen in | Web of Science Scopus |