Hybrid lithography: Combining UV-exposure and two photon direct laser writing

Eschenbaum, Carsten; Großmann, Daniel; Dopf, Katja; Kettlitz, Siegfried; Bocksrocker, Tobias; Valouch, Sebastian; Lemmer, Uli

doi:10.1364/OE.21.029921

Hybrid lithography: Combining UV-exposure and two photon direct laser writing

Eschenbaum, Carsten ¹; Großmann, Daniel ²; Dopf, Katja ²; Kettlitz, Siegfried ²; Bocksrocker, Tobias ²; Valouch, Sebastian ²; Lemmer, Uli ²
¹ Lichttechnisches Institut (LTI), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
² Karlsruher Institut für Technologie (KIT)

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DOI: 10.5445/IR/1000038698

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen) Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP) Lichttechnisches Institut (LTI)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr	2013
Sprache	Englisch
Identifikator	ISSN: 1094-4087 urn:nbn:de:swb:90-386989 KITopen-ID: 1000038698
HGF-Programm	43.14.03 (POF II, LK 01) System integration
Erschienen in	Optics Express
Verlag	Optica Publishing Group (OSA)
Band	21
Heft	24
Seiten	29921-29926
Bemerkung zur Veröffentlichung	Gefördert durch den KIT-Publikationsfonds
Nachgewiesen in	Web of Science Dimensions Scopus

Repository KITopen

Hybrid lithography: Combining UV-exposure and two photon direct laser writing