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Dip-in depletion optical lithography of three-dimensional chiral polarizers

Thiel, M. 1; Ott, J.; Radke, A.; Kaschke, J. 2; Wegener, M. 1,2
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Center for Functional Nanostructures (CFN), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1364/OL.38.004252
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Zitationen: 40
Web of Science
Zitationen: 35
Dimensions
Zitationen: 40
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2013
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0146-9592
KITopen-ID: 1000038747
HGF-Programm 43.14.01 (POF II, LK 01) Photonics crystals and metamaterials
Erschienen in Optics Letters
Verlag Optica Publishing Group (OSA)
Band 38
Heft 20
Seiten 4252-4255
Nachgewiesen in Dimensions
Web of Science
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