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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1364/OL.38.004252
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Zitationen: 23
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Zitationen: 22

Dip-in depletion optical lithography of three-dimensional chiral polarizers

Thiel, M.; Ott, J.; Radke, A.; Kaschke, J.; Wegener, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2013
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0146-9592
KITopen-ID: 1000038747
HGF-Programm 43.14.01 (POF II, LK 01)
Erschienen in Optics Letters
Band 38
Heft 20
Seiten 4252-4255
Nachgewiesen in Scopus
Web of Science
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