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Dip-in depletion optical lithography of three-dimensional chiral polarizers

Thiel, M.; Ott, J.; Radke, A.; Kaschke, J.; Wegener, M.


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1364/OL.38.004252
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Zitationen: 32
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Zitationen: 28
Dimensions
Zitationen: 33
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2013
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0146-9592
KITopen-ID: 1000038747
HGF-Programm 43.14.01 (POF II, LK 01) Photonics crystals and metamaterials
Erschienen in Optics Letters
Verlag The Optical Society of America (OSA)
Band 38
Heft 20
Seiten 4252-4255
Nachgewiesen in Dimensions
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