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Absorption engineering of NbN nanowires deposited on silicon nitride nanophotonic circuits

Kovalyuk, V. 1; Hartmann, W. 1; Kahl, O. 1; Kaurova, N.; Korneev, A.; Goltsman, G.; Pernice W. H.
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Volltext §
DOI: 10.5445/IR/1000040096
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1364/OE.21.022683
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Zitationen: 34
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Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2013
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1094-4087
urn:nbn:de:swb:90-400966
KITopen-ID: 1000040096
HGF-Programm 43.14.01 (POF II, LK 01) Photonics crystals and metamaterials
Erschienen in Optics express
Verlag Optica Publishing Group (OSA)
Band 21
Heft 19
Seiten 22683-22692
Bemerkung zur Veröffentlichung Gefördert durch den KIT-Publikationsfonds
Nachgewiesen in Scopus
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