Reduction of a detailed chemical reaction mechanism for Chemical Vapor Deposition (CVD)
Bykov, V.
; Maas, U.
; Maas, U.| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Technische Thermodynamik (ITT) |
| Publikationstyp | Proceedingsbeitrag |
| Publikationsjahr | 2013 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 1000041215 |
| Erschienen in | Proc. 6th European Combustion Meeting, June 25 - June 28, 2013, Lund, Sweden, 2013 |