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Reduction of a detailed chemical reaction mechanism for Chemical Vapor Deposition (CVD)

Bykov, V. ORCID iD icon; Maas, U.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Technische Thermodynamik (ITT)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Publikationsjahr 2013
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 1000041215
Erschienen in Proc. 6th European Combustion Meeting, June 25 - June 28, 2013, Lund, Sweden, 2013
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