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Reduction of a detailed chemical reaction mechanism for Chemical Vapor Deposition (CVD)

Bykov, V.; Maas, U.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Technische Thermodynamik (ITT)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Jahr 2013
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 1000041215
Erschienen in Proc. 6th European Combustion Meeting, June 25 - June 28, 2013, Lund, Sweden, 2013
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