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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/ma401242g
Scopus
Zitationen: 28
Web of Science
Zitationen: 30

Photo-Sensitive RAFT-Agents for Advanced Microparticle Design

Kaupp, Michael; Tischer, Thomas; Hirschbiel, Astrid F.; Vogt, Andrew P.; Geckle, Udo; Trouillet, Vanessa; Hofe, Thorsten; Stenzel, Martina H.; Barner-Kowollik, Christopher



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Anorganische Chemie (AOC)
Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP)
Institut für Biologische Grenzflächen (IBG)
Institut für Angewandte Materialien - Energiespeichersysteme (IAM-ESS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2013
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0974-7478
KITopen ID: 1000043302
HGF-Programm 47.03.04; LK 01
Erschienen in Macromolecules
Band 46
Heft 17
Seiten 6858-6872
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