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Resistance-voltage dependence of nanojunctions during electromigration in ultrahigh vacuum

Stöffler, D.; Marz, M.; Kiessig, B.; Tomanic, T.; Schaefer, R.; Löhneysen, H. von; Hoffmann-Vogel, R.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Festkörperphysik (IFP)
Physikalisches Institut (PHI)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2014
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1098-0121
KITopen ID: 1000046824
HGF-Programm 43.21.01; LK 01
Erschienen in Physical Review B
Band 90
Heft 11
Seiten 115406/1-5
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