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Resistance-voltage dependence of nanojunctions during electromigration in ultrahigh vacuum

Stöffler, D. 1; Marz, M. 1; Kiessig, B. 2; Tomanic, T. 1; Schaefer, R. 2; Löhneysen, H. von 1,2; Hoffmann-Vogel, R. 1
1 Physikalisches Institut (PHI), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Festkörperphysik (IFP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1103/PhysRevB.90.115406
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Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Festkörperphysik (IFP)
Physikalisches Institut (PHI)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2014
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1098-0121
KITopen-ID: 1000046824
HGF-Programm 43.21.01 (POF II, LK 01)
Erschienen in Physical Review B
Verlag American Physical Society (APS)
Band 90
Heft 11
Seiten 115406/1-5
Nachgewiesen in Scopus
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