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Processing Follows Function: Pushing the Formation of Self-Assembled Monolayers to High-Throughput Compatible Time Scales

Alt, M.; Schinke, J.; Hillebrandt, S.; Hänsel, M.; Hernandez-Sosa, G.; Mechau, N.; Glaser, T.; Mankel, E.; Hamburger, M.; Deing, K.; Jaegermann, W.; Pucci, A.; Kowalsky, W.; Lemmer, U.; Lovrincic, R.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Lichttechnisches Institut (LTI)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2014
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1944-8244
KITopen ID: 1000047438
HGF-Programm 43.14.03; LK 01
Erschienen in ACS Applied Materials and Interfaces
Band 6
Heft 22
Seiten 20234-20241
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