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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1109/JMEMS.2005.859191
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Zitationen: 20
Web of Science
Zitationen: 17

Validation of X-ray lithography and development simulation system for moving mask deep X-ray lithography

Hirai, Y.; Hafizovic, Sadik; Matsuzuka, Naoki; Korvink, Jan G.; Tabata, Osamu



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2006
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1057-7157
KITopen ID: 1000049043
Erschienen in Journal of Microelectromechanical Systems
Band 15
Heft 1
Seiten 159-168
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