Validation of X-ray lithography and development simulation system for moving mask deep X-ray lithography
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2006 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 1057-7157 KITopen-ID: 1000049043 |
| Erschienen in | Journal of Microelectromechanical Systems |
| Verlag | IEEE Electron Devices Society |
| Band | 15 |
| Heft | 1 |
| Seiten | 159-168 |
| Nachgewiesen in | Scopus Dimensions Web of Science |