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PECVD Prozessüberwachung - Wiederholbare Nutzung technischer Plasmen

Grotjahn, Tobias



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Computational Materials Science (IAM-CMS)
Publikationstyp Hochschulschrift
Jahr 2015
Sprache Deutsch
Identifikator ISBN: 978-3-8396-0904-0
KITopen ID: 1000050974
Verlag Fraunhofer, Stuttgart
Umfang V, 89, XLII S.
Serie Fraunhofer IWM Forschungsberichte ; 6
Abschlussart Dissertation
Fakultät Fakultät für Maschinenbau (MACH)
Institut Institut für Angewandte Materialien - Computational Materials Science (IAM-CMS)
Prüfungsdaten 01.04.2015
Referent/Betreuer Prof. M. Scherge
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