PECVD Prozessüberwachung - Wiederholbare Nutzung technischer Plasmen
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Materialien – Computational Materials Science (IAM-CMS) |
| Publikationstyp | Hochschulschrift |
| Publikationsjahr | 2015 |
| Sprache | Deutsch |
| Identifikator | ISBN: 978-3-8396-0904-0 KITopen-ID: 1000050974 |
| Verlag | Fraunhofer Verlag |
| Umfang | V, 89, XLII S. |
| Serie | Fraunhofer IWM Forschungsberichte ; 6 |
| Art der Arbeit | Dissertation |
| Fakultät | Fakultät für Maschinenbau (MACH) |
| Institut | Institut für Angewandte Materialien – Computational Materials Science (IAM-CMS) |
| Prüfungsdaten | 01.04.2015 |
| Referent/Betreuer | Scherge, M. |
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seit 18.05.2018
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