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Monitoring the thin film formation during sputter deposition of Vanadium Carbide

Kaufholz, M. 1; Krause, B. ORCID iD icon 1; Kotapati, S. 1; Köhl, M. 1; Mantilla, M. F.; Stüber, M. 2; Ulrich, S. 2; Schneider, R. 3; Gerthsen, D. 3; Baumbach, T. 1
1 Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Angewandte Materialien (IAM), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Laboratorium für Elektronenmikroskopie (LEM), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1107/S1600577514024412
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Zitationen: 15
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Zitationen: 12
Dimensions
Zitationen: 15
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS)
Laboratorium für Elektronenmikroskopie (LEM)
Universität Karlsruhe (TH) – Zentrale Einrichtungen (Zentrale Einrichtungen)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2015
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0909-0495, 1600-5775
KITopen-ID: 1000052513
HGF-Programm 43.22.01 (POF III, LK 01) Functionality by Design
Erschienen in Journal of synchrotron radiation
Verlag International Union of Crystallography
Band 22
Heft 1
Seiten 76 - 85
Nachgewiesen in Dimensions
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