KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz

Monitoring the thin film formation during sputter deposition of Vanadium Carbide

Kaufholz, M.; Krause, B.; Kotapati, S.; Köhl, M.; Mantilla, M.F.; Stüber, M.; Ulrich, S.; Schneider, R.; Gerthsen, D.; Baumbach, T.

Open Access Logo


Download
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1107/S1600577514024412
Scopus
Zitationen: 9
Web of Science
Zitationen: 8
Zugehörige Institution(en) am KIT Laboratorium für Elektronenmikroskopie (LEM)
Institut für Angewandte Materialien - Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2015
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0909-0495, 1600-5775
KITopen-ID: 1000052513
HGF-Programm 43.22.01 (POF III, LK 01)
Erschienen in Journal of synchrotron radiation
Band 22
Heft 1
Seiten 76 - 85
Nachgewiesen in Web of Science
Scopus
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
KITopen Landing Page