Monitoring the thin film formation during sputter deposition of Vanadium Carbide
Kaufholz, M. 1; Krause, B.
1; Kotapati, S. 1; Köhl, M. 1; Mantilla, M. F.; Stüber, M. 2; Ulrich, S. 2; Schneider, R. 3; Gerthsen, D. 3; Baumbach, T. 1
1 Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Angewandte Materialien (IAM), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Laboratorium für Elektronenmikroskopie (LEM), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1; Kotapati, S. 1; Köhl, M. 1; Mantilla, M. F.; Stüber, M. 2; Ulrich, S. 2; Schneider, R. 3; Gerthsen, D. 3; Baumbach, T. 11 Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Angewandte Materialien (IAM), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Laboratorium für Elektronenmikroskopie (LEM), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP) Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS) Laboratorium für Elektronenmikroskopie (LEM) Universität Karlsruhe (TH) – Zentrale Einrichtungen (Zentrale Einrichtungen) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2015 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0909-0495, 1600-5775 KITopen-ID: 1000052513 |
| HGF-Programm | 43.22.01 (POF III, LK 01) Functionality by Design |
| Erschienen in | Journal of synchrotron radiation |
| Verlag | International Union of Crystallography |
| Band | 22 |
| Heft | 1 |
| Seiten | 76 - 85 |
| Nachgewiesen in | Web of Science Dimensions Scopus |