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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1107/S1600577514024412
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Monitoring the thin film formation during sputter deposition of Vanadium Carbide

Kaufholz, M.; Krause, B.; Kotapati, S.; Köhl, M.; Mantilla, M.F.; Stüber, M.; Ulrich, S.; Schneider, R.; Gerthsen, D.; Baumbach, T.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Laboratorium für Elektronenmikroskopie (LEM)
Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2015
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0909-0495, 1600-5775
KITopen ID: 1000052513
HGF-Programm 43.22.01; LK 01
Erschienen in Journal of synchrotron radiation
Band 22
Heft 1
Seiten 76 - 85
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