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Angle-resolved X-ray reflectivity measurements during off-normal sputter deposition of VN

Krause, B. ORCID iD icon 1; Kaufholz, M. 1; Kotapati, S. 1; Schneider, R. 2; Müller, E. ORCID iD icon 2; Gerthsen, D. 2; Wochner, P.; Baumbach, T. 3,4
1 Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Laboratorium für Elektronenmikroskopie (LEM), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Laboratorium für Applikationen der Synchrotronstrahlung (LAS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
4 ANKA - die Synchrotronstrahlungsquelle am KIT (ANKA), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.surfcoat.2015.07.030
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Zitationen: 5
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Zitationen: 5
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Zitationen: 5
Zugehörige Institution(en) am KIT ANKA - die Synchrotronstrahlungsquelle am KIT (ANKA)
Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS)
Laboratorium für Applikationen der Synchrotronstrahlung (LAS)
Laboratorium für Elektronenmikroskopie (LEM)
Universität Karlsruhe (TH) – Zentrale Einrichtungen (Zentrale Einrichtungen)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2015
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0257-8972, 1879-3347
KITopen-ID: 1000052519
HGF-Programm 56.03.20 (POF III, LK 01) Nanoscience a.Material f.Inform.Technol.
Weitere HGF-Programme 54.01.01 (POF III, LK 01) ps- und fs-Strahlen
Erschienen in Surface and coatings technology
Verlag Elsevier
Band 277
Seiten 52 - 57
Nachgewiesen in Web of Science
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