KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz

Angle-resolved X-ray reflectivity measurements during off-normal sputter deposition of VN

Krause, B.; Kaufholz, M.; Kotapati, S.; Schneider, R.; Müller, E.; Gerthsen, D.; Wochner, P.; Baumbach, T.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.surfcoat.2015.07.030
Scopus
Zitationen: 3
Web of Science
Zitationen: 3
Seitenaufrufe: 13
seit 18.05.2018
Zugehörige Institution(en) am KIT Laboratorium für Elektronenmikroskopie (LEM)
Laboratorium für Applikationen der Synchrotronstrahlung (LAS)
Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS)
ANKA - die Synchrotronstrahlungsquelle am KIT (ANKA)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2015
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0257-8972, 1879-3347
KITopen-ID: 1000052519
HGF-Programm 56.03.20 (POF III, LK 01)
Erschienen in Surface and coatings technology
Band 277
Seiten 52 - 57
Nachgewiesen in Web of Science
Scopus
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
KITopen Landing Page