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Adjustable passivation of SiO2 trap states in OFETs by an ultrathin CVD deposited polymer coating

Alt, M.; Melzer, C.; Mathies, F.; Deing, K.; Hernandez-Sosa, G.; Lemmer, U.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Lichttechnisches Institut (LTI)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2016
Sprache Englisch
Identifikator DOI: 10.1007/s00339-016-9678-6
ISSN: 0947-8396
KITopen ID: 1000054031
HGF-Programm 43.23.04; LK 01
Erschienen in Applied Physics A: Materials Science and Processing
Band 122
Heft 3
Seiten 122:204
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