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Penetrating the Elusive Mechanism of Copper-Mediated Fluoromethylation in the Presence of Oxygen through the Gas-Phase Reactivity of Well-Defined [LCuO]⁺ Complexes with Fluoromethanes (CH(4-n)Fn, n = 1-3)

Rijs, N. J. 1; Gonzalez-Navarrete, P.; Schlangen, M.; Schwarz, H.
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/jacs.5b12972
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Zitationen: 30
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Zitationen: 32
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2016
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0002-7863
KITopen-ID: 1000054554
HGF-Programm 43.21.04 (POF III, LK 01) Molecular Engineering
Erschienen in Journal of the American Chemical Society
Verlag American Chemical Society (ACS)
Band 138
Heft 9
Seiten 3125-3135
Nachgewiesen in Web of Science
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