Mixed-mode high-power impulse magnetron sputter deposition of tetrahedral amorphous carbon with pulse-length control of ionization

Tucker, M. D.; Ganesan, R.; McCulloch, D. G.; Partridge, J. G.; Stueber, M.; Ulrich, S.; Bilek, M. M. M.; McKenzie, D. R.; Marks, N. A.

doi:10.1063/1.4946841

Mixed-mode high-power impulse magnetron sputter deposition of tetrahedral amorphous carbon with pulse-length control of ionization

Tucker, M. D.; Ganesan, R.; McCulloch, D. G.; Partridge, J. G.; Stueber, M. ¹; Ulrich, S. ¹; Bilek, M. M. M.; McKenzie, D. R.; Marks, N. A.
¹ Karlsruher Institut für Technologie (KIT)

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DOI: 10.1063/1.4946841

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr	2016
Sprache	Englisch
Identifikator	ISSN: 0021-8979 KITopen-ID: 1000054686
HGF-Programm	43.22.01 (POF III, LK 01) Functionality by Design
Erschienen in	Journal of Applied Physics
Verlag	American Institute of Physics (AIP)
Band	119
Heft	15
Seiten	155303
Nachgewiesen in	Dimensions Web of Science Scopus

Repository KITopen

Mixed-mode high-power impulse magnetron sputter deposition of tetrahedral amorphous carbon with pulse-length control of ionization