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Mixed-mode high-power impulse magnetron sputter deposition of tetrahedral amorphous carbon with pulse-length control of ionization

Tucker, M.D.; Ganesan, R.; McCulloch, D.G.; Partridge, J.G.; Stueber, M.; Ulrich, S.; Bilek, M.M.M.; McKenzie, D.R.; Marks, N.A.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2016
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0021-8979
KITopen ID: 1000054686
HGF-Programm 43.22.01; LK 01
Erschienen in Journal of Applied Physics
Band 119
Heft 15
Seiten 155303
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