KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz

Mixed-mode high-power impulse magnetron sputter deposition of tetrahedral amorphous carbon with pulse-length control of ionization

Tucker, M. D.; Ganesan, R.; McCulloch, D. G.; Partridge, J. G.; Stueber, M. 1; Ulrich, S. 1; Bilek, M. M. M.; McKenzie, D. R.; Marks, N. A.
1 Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Download
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1063/1.4946841
Scopus
Zitationen: 34
Dimensions
Zitationen: 34
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2016
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0021-8979
KITopen-ID: 1000054686
HGF-Programm 43.22.01 (POF III, LK 01) Functionality by Design
Erschienen in Journal of Applied Physics
Verlag American Institute of Physics (AIP)
Band 119
Heft 15
Seiten 155303
Nachgewiesen in Scopus
Dimensions
Web of Science
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
KITopen Landing Page