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Localized epitaxial grwth and characterization of Cr₂O₃ thin films on α-Al₂O₃ substrates with different thickness by r.f. magnetron sputtering at 320⁰C

Gao, Y.; Leiste, H.; Stueber, M.; Ulrich, S.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Publikationstyp Vortrag
Publikationsjahr 2016
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 1000055373
HGF-Programm 34.13.01 (POF III, LK 01) Material f.therm.,mechan.u.Umweltbelast.
Veranstaltung Materials Science and Engineering (MSE) 2016, Darmstadt, September 27-29, 2016
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