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Asymmetric skew X-ray diffraction at fixed incidence angle: application to semiconductor nano-objects

Grigoriev, Daniil A. 1,2; Lazarev, Sergey; Schroth, Philipp 1,2; Minkevich, Andrey A. 2; Köhl, Martin 2; Slobodskyy, Taras; Helfrich, Mathieu F. 3; Schaadt, Daniel M.; Aschenbrenner, Timo 2; Hommel, Detlef; Baumbach, Tilo 1,2,4
1 Laboratorium für Applikationen der Synchrotronstrahlung (LAS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Center for Functional Nanostructures (CFN), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
4 ANKA - die Synchrotronstrahlungsquelle am KIT (ANKA), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)

Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS)
Laboratorium für Applikationen der Synchrotronstrahlung (LAS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2016
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0021-8898
KITopen-ID: 1000055863
HGF-Programm 56.03.20 (POF III, LK 01) Nanoscience a.Material f.Inform.Technol.
Erschienen in Journal of Applied Crystallography
Verlag International Union of Crystallography
Band 49
Heft Part 3
Seiten 961-967
Nachgewiesen in Web of Science
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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1107/S1600576716006385
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Seitenaufrufe: 179
seit 22.05.2018
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