Asymmetric skew X-ray diffraction at fixed incidence angle: application to semiconductor nano-objects

Grigoriev, Daniil A.; Lazarev, Sergey; Schroth, Philipp; Minkevich, Andrey A.; Köhl, Martin; Slobodskyy, Taras; Helfrich, Mathieu F.; Schaadt, Daniel M.; Aschenbrenner, Timo; Hommel, Detlef; Baumbach, Tilo

doi:10.1107/S1600576716006385

Asymmetric skew X-ray diffraction at fixed incidence angle: application to semiconductor nano-objects

Grigoriev, Daniil A. ¹^,2; Lazarev, Sergey; Schroth, Philipp ¹^,2; Minkevich, Andrey A. ²; Köhl, Martin ²; Slobodskyy, Taras; Helfrich, Mathieu F. ³; Schaadt, Daniel M.; Aschenbrenner, Timo ²; Hommel, Detlef; Baumbach, Tilo ¹^,2^,4
¹ Laboratorium für Applikationen der Synchrotronstrahlung (LAS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
² Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
³ Center for Functional Nanostructures (CFN), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
⁴ ANKA - die Synchrotronstrahlungsquelle am KIT (ANKA), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS) Laboratorium für Applikationen der Synchrotronstrahlung (LAS)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr	2016
Sprache	Englisch
Identifikator	ISSN: 0021-8898 KITopen-ID: 1000055863
HGF-Programm	56.03.20 (POF III, LK 01) Nanoscience a.Material f.Inform.Technol.
Erschienen in	Journal of Applied Crystallography
Verlag	International Union of Crystallography
Band	49
Heft	Part 3
Seiten	961-967
Nachgewiesen in	Web of Science Scopus Dimensions

Repository KITopen

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