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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1107/S1600576716006385
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Asymmetric skew X-ray diffraction at fixed incidence angle: application to semiconductor nano-objects

Grigoriev, Daniil A.; Lazarev, Sergey; Schroth, Philipp; Minkevich, Andrey A.; Köhl, Martin; Slobodskyy, Taras; Helfrich, Mathieu F.; Schaadt, Daniel M.; Aschenbrenner, Timo; Hommel, Detlef; Baumbach, Tilo



Zugehörige Institution(en) am KIT Laboratorium für Applikationen der Synchrotronstrahlung (LAS)
Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2016
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0021-8898
KITopen ID: 1000055863
HGF-Programm 56.03.20; LK 01
Erschienen in Journal of Applied Crystallography
Band 49
Heft Part 3
Seiten 961-967
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