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Quantum Plasmonic Sensing: Beyond the Shot-Noise and Diffraction Limit

Lee, Changhyoup; Dieleman, Frederik; Lee, Jinhyoung; Rockstuhl, Carsten; Maier, Stefan A.; Tame, Mark

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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/acsphotonics.6b00082
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Zitationen: 22
Web of Science
Zitationen: 23
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2016
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2330-4022
KITopen-ID: 1000056182
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01)
Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in ACS Photonics
Band 3
Heft 6
Seiten 992–999
Nachgewiesen in Scopus
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