Quantum Plasmonic Sensing: Beyond the Shot-Noise and Diffraction Limit
Lee, Changhyoup 1; Dieleman, Frederik; Lee, Jinhyoung; Rockstuhl, Carsten
1,2; Maier, Stefan A.; Tame, Mark
1 Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1,2; Maier, Stefan A.; Tame, Mark1 Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nanotechnologie (INT) Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2016 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 2330-4022 KITopen-ID: 1000056182 |
| HGF-Programm | 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy |
| Erschienen in | ACS Photonics |
| Verlag | American Chemical Society (ACS) |
| Band | 3 |
| Heft | 6 |
| Seiten | 992–999 |
| Nachgewiesen in | Web of Science OpenAlex Scopus Dimensions |
| Globale Ziele für nachhaltige Entwicklung |