Echelle grating for silicon photonics applications : integration of electron beam lithography in the process flow and first results
Kaschel, Mathias; Letzkus, Florian; Butschke, Jörg; Skwierawski, Piotr 1; Schneider, Marc
1; Weber, Marc 1
1 Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1; Weber, Marc 11 Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Prozessdatenverarbeitung und Elektronik (IPE) |
| Publikationstyp | Proceedingsbeitrag |
| Publikationsjahr | 2016 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISBN: 978-15106-0136-9 ISSN: 0277-786X KITopen-ID: 1000056611 |
| HGF-Programm | 43.23.03 (POF III, LK 01) Teratronics |
| Erschienen in | Silicon Photonics and Photonic Integrated Circuits V, Bruxelles, B, April 3-7, 2016. Ed.: L. Vivien |
| Verlag | Society of Photo-optical Instrumentation Engineers (SPIE) |
| Seiten | 98911V |
| Serie | Proceedings of SPIE ; 9891 |
| Nachgewiesen in | Dimensions Scopus |