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Echelle grating for silicon photonics applications : integration of electron beam lithography in the process flow and first results

Kaschel, Mathias; Letzkus, Florian; Butschke, Jörg; Skwierawski, Piotr; Schneider, Marc; Weber, Marc



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Prozessdatenverarbeitung und Elektronik (IPE)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Jahr 2016
Sprache Englisch
Identifikator ISBN: 978-15106-0136-9
ISSN: 0277-786X
KITopen ID: 1000056611
HGF-Programm 43.23.03; LK 01
Erschienen in Silicon Photonics and Photonic Integrated Circuits V, Bruxelles, B, April 3-7, 2016. Ed.: L. Vivien
Verlag SPIE, Bellingham (WA)
Seiten 98911V
Serie Proceedings of SPIE ; 9891
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