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Ultrashort Pulse Laser Processing of Silica at High Repetition Rates-from Network Change to Residual Strain

Zimmermann, F.; Lancry, M.; Plech, A. ORCID iD icon 1; Richter, S.; Ullsperger, T.; Poumellec, B.; Tünnermann, A.; Nolte, S.
1 Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1111/ijag.12221
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Zitationen: 9
Web of Science
Zitationen: 7
Dimensions
Zitationen: 8
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2016
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2041-1286, 2041-1294
KITopen-ID: 1000058732
HGF-Programm 56.03.20 (POF III, LK 01) Nanoscience a.Material f.Inform.Technol.
Erschienen in International journal of applied glass science
Verlag John Wiley and Sons
Nachgewiesen in Web of Science
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Dimensions
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