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Ultrashort Pulse Laser Processing of Silica at High Repetition Rates-from Network Change to Residual Strain

Zimmermann, F.; Lancry, M.; Plech, A.; Richter, S.; Ullsperger, T.; Poumellec, B.; Tünnermann, A.; Nolte, S.



Zugehörige Institution(en) am KIT ANKA - die Synchrotronstrahlungsquelle am KIT (ANKA)
Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2016
Sprache Englisch
Identifikator DOI: 10.1111/ijag.12221
ISSN: 2041-1286, 2041-1294
KITopen ID: 1000058732
HGF-Programm 56.03.20; LK 01
Erschienen in International journal of applied glass science
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