Ultrashort Pulse Laser Processing of Silica at High Repetition Rates-from Network Change to Residual Strain
Zimmermann, F.; Lancry, M.; Plech, A.
1; Richter, S.; Ullsperger, T.; Poumellec, B.; Tünnermann, A.; Nolte, S.
1 Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1; Richter, S.; Ullsperger, T.; Poumellec, B.; Tünnermann, A.; Nolte, S.1 Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2016 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 2041-1286, 2041-1294 KITopen-ID: 1000058732 |
| HGF-Programm | 56.03.20 (POF III, LK 01) Nanoscience a.Material f.Inform.Technol. |
| Erschienen in | International journal of applied glass science |
| Verlag | John Wiley and Sons |
| Nachgewiesen in | Web of Science Scopus Dimensions |