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A Monte Carlo study of the primary absorbed energy redistribution in X-ray lithography

Meyer, P.; Pantenburg, F. J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2014
Sprache Englisch
Identifikator DOI: 10.1007/s00542-013-1966-x
ISSN: 0946-7076
KITopen ID: 1000059551
HGF-Programm 43.13.01; LK 01
Erschienen in Microsystem technologies
Band 20
Heft 10-11
Seiten 1881-1889
Bemerkung zur Veröffentlichung 10th International Workshop on High Aspect Ratio Micro and Nano System

Technology (HARMNST 2013), Berlin, April 21-24, 2013
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