KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz

Ethylenediamine Grafting on Oxide-Free H-, 1/3 ML F-, and Cl-Terminated Si(111) Surfaces

Chopra, Tatiana Peixoto; Longo, Roberto Carlos; Cho, Kyeongjae; Halls, Mathew D.; Thissen, Peter 1; Chabal, Yves J.
1 Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/acs.chemmater.5b03156
Scopus
Zitationen: 27
Web of Science
Zitationen: 26
Dimensions
Zitationen: 27
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2015
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0897-4756, 1520-5002
KITopen-ID: 1000059891
HGF-Programm 34.15.01 (POF III, LK 01) Mineralische Konstruktionsmaterialien
Erschienen in Chemistry of materials
Verlag American Chemical Society (ACS)
Band 27
Heft 18
Seiten 6268-6281
Nachgewiesen in Scopus
Dimensions
Web of Science
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
KITopen Landing Page