Ethylenediamine Grafting on Oxide-Free H-, 1/3 ML F-, and Cl-Terminated Si(111) Surfaces
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2015 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0897-4756, 1520-5002 KITopen-ID: 1000059891 |
| HGF-Programm | 34.15.01 (POF III, LK 01) Mineralische Konstruktionsmaterialien |
| Erschienen in | Chemistry of materials |
| Verlag | American Chemical Society (ACS) |
| Band | 27 |
| Heft | 18 |
| Seiten | 6268-6281 |
| Nachgewiesen in | Dimensions Web of Science Scopus |