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Ethylenediamine Grafting on Oxide-Free H-, 1/3 ML F-, and Cl-Terminated Si(111) Surfaces

Chopra, Tatiana Peixoto; Longo, Roberto Carlos; Cho, Kyeongjae; Halls, Mathew D.; Thissen, Peter; Chabal, Yves J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2015
Sprache Englisch
Identifikator DOI: 10.1021/acs.chemmater.5b03156
ISSN: 0897-4756, 1520-5002
KITopen ID: 1000059891
HGF-Programm 34.15.01; LK 01
Erschienen in Chemistry of materials
Band 27
Heft 18
Seiten 6268-6281
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